广州对乙酰氧基苯乙酮可用于合成作为光致抗蚀剂主要成分的聚对羟基苯乙烯。聚广州对羟基苯乙酮系列的化学增幅型光致抗蚀剂是较为主流的光致抗蚀剂。用于处理光蚀刻集成电路，制造芯片的关键技术之一。
对对羟基苯乙烯为原料，经对羟基苯基甲基甲醇制备对乙酰氧基苯乙烯的方法。这种合成方法工艺步骤少，而且对羟基苯基甲基甲醇在酸催化剂和乙酰化试剂的存在下，加热脱水直接形成对乙酰氧基苯乙烯。
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时间：2019/6/30 16:04:49
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